1011_INTRODUCTION TO SEMICONDUCTOR MICROFABRICATION TECHNOLOGY
Course Period：From2012-09-28 ~ Any Time
Course Intro
Course Plan
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Chapter01_Introduction_v2
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Chapter01_Introduction_v3
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Chapter02_Characteristics of Semiconductor Materials
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Chapter03_Device Technologies
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Chapter04_Silicon and Wafer Preparation_v2
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Chapter09_IC Fabrication Process Overview
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Chapter10_Oxidation
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Chapter11_Deposition
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Chapter13_Photolithography
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Chapter14_Photolithography Alignment and Exposure
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Chapter15_Photolithography Resist Development and Advanced Lithography
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Chapter16-1_Etch
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Chapter17_ Doping
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半導體期中考-中文解答
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半導體期中考-英文解答
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半導體期末考-20130116-(中文解答)
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半導體期末考-20130117-(英文解答)-1
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半導體製程導論第一次作業參考解答(中文)-2-20121013
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半導體製程導論第一次作業參考解答(英文)-2-20121013
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半導體製程導論第七次作業參考解答(中文)
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半導體製程導論第七次作業參考解答(英文)
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半導體製程導論第九次作業參考解答(中文)
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半導體製程導論第九次作業參考解答(英文)
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半導體製程導論第二次作業參考解答(中文)-2-20121013
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半導體製程導論第二次作業參考解答(英文)-2-20121013
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半導體製程導論第八次作業參考解答(中文)
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半導體製程導論第八次作業參考解答(英文)
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半導體製程導論第十一次作業參考解答(中文)
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半導體製程導論第十一次作業參考解答(英文)
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半導體製程導論第十次作業參考解答(中文)
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半導體製程導論第十次作業參考解答(英文)
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半導體製程導論第三次作業參考解答(中文)-2-20121109
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半導體製程導論第三次作業參考解答(英文)-2-20121109
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半導體製程導論第五次作業參考解答(中文)-20121215
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半導體製程導論第五次作業參考解答(英文)-20121013
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半導體製程導論第六次作業參考解答(中文)
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半導體製程導論第六次作業參考解答(英文)
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半導體製程導論第四次作業參考解答(中文)-2-20121111
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半導體製程導論第四次作業參考解答(英文)-2-20121111
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平時成績說明
Co-Instructor(s)
莊婉君
莊婉君
Co-Instructor(s)
陳伯遠
陳伯遠
Co-Instructor(s)
陳威龍
陳威龍
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